透射电镜试样及其制备方法、待测结构的失效分析方法

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专利状态

透射电镜试样及其制备方法、待测结构的失效分析方法

有效

专利申请进度

申请

2021-12-03

申请公布

2022-03-04

授权

2024-01-16

预估到期

2041-12-03

专利基础信息

申请号	CN202111466420.5	申请日	2021-12-03
申请公布号	CN114136736A	申请公布日	2022-03-04
授权公布号	CN114136736B	授权公告日	2024-01-16
分类号	G01N1/28;G01N23/20008
分类	测量；测试;
申请人名称	长江存储科技有限责任公司
申请人地址	湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号

专利法律状态

2024-01-16

授权

状态信息

授权
2022-03-22

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01N1/28；申请日:20211203
2022-03-04

公布

状态信息

公布

摘要

本发明提供一种透射电镜试样的制备方法，包括以下步骤：在待测结构中确定测试目标区域；基于测试目标区域提取测试块，所述测试块包括与所述目标区域对应的目标区部分和与目标区部分第一侧边连接的支撑区部分，且所述支撑区部分具有高于所述目标区部分的凸出部；将目标区部分沿与第一侧边平行的方向的中部在厚度方向减薄，作为试样观测区，所述目标区部分形成第一端部和第二端部；对所述支撑区部分沿与所述第一侧边平行的方向的中部在厚度方向减薄至所述凸出部中以形成中间连接部，支撑区部分形成第一端部和第二端部，所述中间连接部与所述支撑区部分的第一端部、第二端部及所述目标区部分的第二端部共同构成所述透射电镜试样的支撑框。

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