• 热门行业
  • 装修建材
  • 家居生活
  • 餐饮食品
  • 母婴教育
  • 电脑办公
  • 服装首饰
  • 汽车工具
  • 家电数码
  • 机械化工
  • 休闲美容
返回上一页
专利状态
图形生成方法及掩膜版的制备方法
有效
专利申请进度
申请
2018-07-17
申请公布
2020-01-24
授权
2023-10-27
预估到期
2038-07-17
专利基础信息
申请号 CN201810784631.5 申请日 2018-07-17
申请公布号 CN110727167A 申请公布日 2020-01-24
授权公布号 CN110727167B 授权公告日 2023-10-27
分类号 G03F1/44;G03F1/36
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址 上海市浦东新区张江路18号
专利法律状态
  • 2023-10-27
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-02-25
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G03F1/44;申请日:20180717
  • 2020-01-24
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明揭示了一种图形生成方法及掩膜版的制备方法,所述图形生成方法包括:提供第一坐标系,划分为多个区域并分别设定坐标,所述多个区域包括第一目标区域及其周围至少一个第一外围区域;以及,依据所述多个区域的坐标检测所述第一目标区域周围的第一外围区域中的图形,并依据所述第一外围区域中的图形生成所述第一目标区域中的图形。由此,通过外围区域中的图形限定目标区域中生成的图形,使得实际图形生成过程可控,以便获得所需要的图形,最终获得高质量的掩膜版。