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专利状态
具有图形的光罩的制造方法
有效
专利申请进度
申请
2018-12-27
申请公布
2020-07-07
授权
2024-03-08
预估到期
2038-12-27
专利基础信息
申请号
CN201811608259.9
申请日
2018-12-27
申请公布号
CN111381436A
申请公布日
2020-07-07
授权公布号
CN111381436B
授权公告日
2024-03-08
分类号
G03F1/44
分类
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号
专利法律状态
2024-03-08
授权
状态信息
授权
2020-07-31
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G03F1/44;申请日:20181227
2020-07-07
公布
状态信息
公布
摘要
本发明提供具有图形的光罩的制造方法,包括:提供设计图形和标准测试图形;采用测试电子束光刻工艺写入所述标准测试图形,生成测试光罩,获取所述测试光罩中的测试图形与标准测试图形之间的位置偏差量;采用实际电子束光刻工艺写入所述设计图形,生成具有图形的光罩,且在所述实际电子束光刻工艺过程中,基于获取的所述位置偏差量对所述设计图形进行补偿,以抵消所述实际电子束光刻工艺中的反射电子对电子束位置造成的电子束位置偏移量。本发明提高了光罩中的图形位置精确度和形貌精确度,改善了形成的光罩的质量。
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