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专利状态
一种光罩的缺陷修复方法及光罩
有效
专利申请进度
申请
2018-05-14
申请公布
2019-11-22
授权
2023-12-01
预估到期
2038-05-14
专利基础信息
申请号
CN201810457978.9
申请日
2018-05-14
申请公布号
CN110488568A
申请公布日
2019-11-22
授权公布号
CN110488568B
授权公告日
2023-12-01
分类号
G03F1/72
分类
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址
上海市浦东新区张江路18号
专利法律状态
2023-12-01
授权
状态信息
授权
2019-12-17
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G03F1/72;申请日:20180514
2019-11-22
公布
状态信息
公布
摘要
本发明提供一种光罩的缺陷修复方法及光罩,所述方法包括:提供待修复光罩,所述待修复光罩包括遮光层以及形成在所述遮光层中的透光图案,所述透光图案包括具有缺陷的待修复图案;在邻近所述缺陷的部分所述遮光层上形成散射图案。本发明的方法过程更加容易控制,能够对小尺寸的挑战性缺陷进行补救,并且该方法不会对光罩上的正常图案造成损伤,可以提高修复合格率,降低修复循环次数。
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