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专利状态
涂布机及涂布方法和掩膜板的形成方法
有效
专利申请进度
申请
2018-04-10
申请公布
2019-10-22
授权
2023-10-20
预估到期
2038-04-10
专利基础信息
申请号 CN201810315441.9 申请日 2018-04-10
申请公布号 CN110361935A 申请公布日 2019-10-22
授权公布号 CN110361935B 授权公告日 2023-10-20
分类号 G03F7/16;G03F1/68
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址 上海市浦东新区张江路18号
专利法律状态
  • 2023-10-20
    授权
    状态信息
    授权
  • 2019-11-15
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G03F7/16;申请日:20180410
  • 2019-10-22
    公布
    状态信息
    公布
摘要
一种涂布机及涂布方法和掩膜板的形成方法,其中,涂布机包括:喷头壳体,连接所述喷头壳体的第一阀门和第二阀门,所述喷头壳体、第一阀门和第二阀门围成气压腔,所述第一阀门和第二阀门之间具有涂覆缝,所述涂覆缝与所述气压腔相互贯通;位于所述喷头壳体气压腔中的喷嘴,喷嘴中具有喷孔,所述喷孔贯穿所述喷嘴,且所述喷孔与所述气压腔相互贯通。所述涂布机能够对特定区域进行涂布。