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专利状态
涂布机及涂布方法和掩膜板的形成方法
有效
专利申请进度
申请
2018-04-10
申请公布
2019-10-22
授权
2023-10-20
预估到期
2038-04-10
专利基础信息
申请号
CN201810315441.9
申请日
2018-04-10
申请公布号
CN110361935A
申请公布日
2019-10-22
授权公布号
CN110361935B
授权公告日
2023-10-20
分类号
G03F7/16;G03F1/68
分类
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址
上海市浦东新区张江路18号
专利法律状态
2023-10-20
授权
状态信息
授权
2019-11-15
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G03F7/16;申请日:20180410
2019-10-22
公布
状态信息
公布
摘要
一种涂布机及涂布方法和掩膜板的形成方法,其中,涂布机包括:喷头壳体,连接所述喷头壳体的第一阀门和第二阀门,所述喷头壳体、第一阀门和第二阀门围成气压腔,所述第一阀门和第二阀门之间具有涂覆缝,所述涂覆缝与所述气压腔相互贯通;位于所述喷头壳体气压腔中的喷嘴,喷嘴中具有喷孔,所述喷孔贯穿所述喷嘴,且所述喷孔与所述气压腔相互贯通。所述涂布机能够对特定区域进行涂布。
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