首页
品牌
排行
问答
专题
特惠
资讯
展会
百科
热门行业
装修建材
家居生活
餐饮食品
母婴教育
电脑办公
服装首饰
汽车工具
家电数码
机械化工
休闲美容
热门行业
教育培训
板材
地板
涂料
家纺
集成吊顶
美缝剂
木门
硅藻泥
管材
指纹锁
橱柜
衣柜
床垫
电热水器
集成灶
暖气片
净水器
酒店
卫浴
装修建材
卫浴洁具
板材
地板
建筑陶瓷
天花板
涂料
瓷砖泥瓦
水电管材
火锅
快餐
生活用品
软装
装饰装潢
灯具
家纺
干洗服务
内衣
男装
女装
幼教
整体卫浴
地板砖
阻燃板
铝材
集成吊顶
美缝剂
硅藻泥
管材
烤鱼
汉堡
叶酸
婴儿用品
婴儿床
指纹锁
品牌首页
品牌资讯
企业信息
商标信息
专利信息
返回上一页
专利状态
半导体结构及其形成方法
有效
专利申请进度
申请
2019-03-27
申请公布
2020-10-09
授权
2024-03-22
预估到期
2039-03-27
专利基础信息
申请号
CN201910236557.8
申请日
2019-03-27
申请公布号
CN111755498A
申请公布日
2020-10-09
授权公布号
CN111755498B
授权公告日
2024-03-22
分类号
H01L29/06;H01L21/336;H01L29/78
分类
基本电气元件;
申请人名称
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号
专利法律状态
2024-03-22
授权
状态信息
授权
2020-10-30
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):H01L29/06;申请日:20190327
2020-10-09
公布
状态信息
公布
摘要
一种半导体结构及其形成方法,形成方法包括:提供基底,包括衬底和分立于衬底上的鳍部,基底包括第一区域和第二区域,且第一区域中形成的栅极结构和第二区域中形成的栅极结构相互隔离;形成隔离层以及凸出于隔离层的阻断结构,隔离层位于鳍部露出的衬底上且隔离层覆盖鳍部的部分侧壁,阻断结构位于第一区域和第二区域交界处的隔离层上,阻断结构的延伸方向平行于鳍部的延伸方向;形成隔离层和阻断结构后,形成横跨多个鳍部的栅极结构,栅极结构覆盖鳍部的部分侧壁和部分顶壁,且栅极结构覆盖阻断结构的侧壁,且栅极结构露出阻断结构顶面。本发明形成阻断结构之后形成栅极结构,阻断结构对栅极结构的隔离效果更好,优化了半导体结构的电学性能。
更多专利
1
半导体结构及半导体结构的形成方法
2
半导体结构的形成方法
3
半导体结构及其形成方法
4
掩膜图形修复方法及掩膜板
5
半导体器件及其形成方法
6
掩膜版版图、存储单元结构和存储器
7
半导体结构及其形成方法
8
半导体结构及其形成方法
9
纳米管随机存储器及其形成方法
10
半导体结构及半导体结构的形成方法
11
工艺传感器
12
半导体结构及其形成方法
13
半导体结构及其形成方法
14
半导体结构及其形成方法
15
半导体结构及其形成方法
16
半导体结构及其形成方法
17
具有图形的光罩的制造方法
18
一种熔丝存储单元、存储阵列以及存储阵列的工作方法
19
半导体结构及其形成方法、存储器
20
半导体结构及其形成方法
全国服务热线:
在线客服
1211389656
咨询
商务合作
85926368
咨询
媒体合作
921888730
咨询
在线客服
客服微信号
品牌网官方客服微信
打开微信扫一扫
客服微信
商务合作微信
商务合作详谈
打开微信扫一扫
商务合作
回到顶部