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专利状态
图形优化方法及掩膜版制造方法
有效
专利申请进度
申请
2018-07-17
申请公布
2020-01-24
授权
2023-10-27
预估到期
2038-07-17
专利基础信息
申请号 CN201810784635.3 申请日 2018-07-17
申请公布号 CN110727172A 申请公布日 2020-01-24
授权公布号 CN110727172B 授权公告日 2023-10-27
分类号 G03F1/76;G03F7/20
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址 上海市浦东新区张江路18号
专利法律状态
  • 2023-10-27
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-02-25
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G03F1/76;申请日:20180717
  • 2020-01-24
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明揭示了一种图形优化方法,所述图形优化方法包括:提供待优化图形,所述待优化图形包括第一图形和第二图形,所述待优化图形具有热区域;对所述第一图形和所述第二图形进行选择性尺寸调整;依据所述热区域对所述选择性尺寸调整进行反馈操作;以及依据所述反馈操作获得优化后的图形。于是,在进行选择性尺寸调整后,进一步对该选择性尺寸调整进行反馈操作,使得选择性尺寸调整对实际图形的影响更合理,有助于提高具有热区域的图形的精度。由此进行的掩膜版制造,可以提高掩膜版的质量。