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专利状态
光学邻近修正模型的校正方法
有效
专利申请进度
申请
2019-06-18
申请公布
2020-12-18
授权
2023-10-17
预估到期
2039-06-18
专利基础信息
申请号
CN201910527584.0
申请日
2019-06-18
申请公布号
CN112099309A
申请公布日
2020-12-18
授权公布号
CN112099309B
授权公告日
2023-10-17
分类号
G03F1/36
分类
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号
专利法律状态
2023-10-17
授权
状态信息
授权
2021-01-05
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G03F1/36;申请日:20190618
2020-12-18
公布
状态信息
公布
摘要
一种光学邻近修正模型的校正方法,包括:提供具有待测量图形的原始版图;确定待测量图形的待测量位置;通过原始版图获得形成于物理晶圆上的物理晶圆图形;获取待测量位置对应在物理晶圆图形上的关键尺寸为第一尺寸;执行检测工艺,包括:采用OPC模型对原始版图进行模拟,获得模拟图形;根据待测量位置在模拟图形上选定第一待测量区域,并采集第一待测量区域中的多个关键尺寸的量测数据;根据多个关键尺寸的量测数据和第一尺寸类型,获取待测量位置对应在模拟图形上的关键尺寸为第二尺寸;根据第二尺寸和第一尺寸,判断误差函数值的收敛性是否满足光学邻近修正的要求;当未满足要求时,校正OPC模型,并返回执行检测工艺的步骤。本发明提高OPC精准度。
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