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专利状态
半导体器件的量测方法
有效
专利申请进度
申请
2021-09-14
申请公布
2021-12-21
授权
2024-02-20
预估到期
2041-09-14
专利基础信息
申请号 CN202111073814.4 申请日 2021-09-14
申请公布号 CN113820578A 申请公布日 2021-12-21
授权公布号 CN113820578B 授权公告日 2024-02-20
分类号 G01R31/26;G01N23/2251;G01N23/04;G01N23/20;CN102062710A,2011.05.18;CN103760177A,2014.04.30;CN104777024A,2015.07.15;CN109920742A,2019.06.21;CN112630238A,2021.04.09;CN109084721A,2018.12.25;US6248603B1,2001.06.19;US2018218878A1,2018.08.02;CN102047405A,2011.05
分类 测量;测试;
申请人名称 长江存储科技有限责任公司
申请人地址 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
专利法律状态
  • 2024-02-20
    授权
    状态信息
    授权
  • 2022-01-07
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G01R31/26;申请日:20210914
  • 2021-12-21
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明提供了一种半导体器件的量测方法,包括:提供半导体器件,半导体器件包括衬底和位于衬底上的半导体结构;依据半导体结构的参考标记设定,在图像处理软件中生成一个标记图;利用聚焦离子束在半导体结构上依据标记图同时生成多个实体标记;利用透射电子显微镜获取半导体结构的TEM图像,并根据多个实体标记,对半导体结构进行尺寸量测,通过该方法能自动快速标记半导体结构,以节省人力时间和降低成本。