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专利状态
一种晶圆的清洗方法及实现其的装置
有效
专利申请进度
申请
2021-02-19
申请公布
2021-06-15
授权
2023-10-20
预估到期
2041-02-19
专利基础信息
申请号 CN202110188738.5 申请日 2021-02-19
申请公布号 CN112967924A 申请公布日 2021-06-15
授权公布号 CN112967924B 授权公告日 2023-10-20
分类号 H01L21/02;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/02;F26B5/08
分类 基本电气元件;
申请人名称 长江存储科技有限责任公司
申请人地址 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
专利法律状态
  • 2023-10-20
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-07-02
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):H01L21/02;申请日:20210219
  • 2021-06-15
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本申请提供一种晶圆的清洗方法和一种晶圆的清洗装置。该清洗方法包括:在晶圆以第一转速旋转的情况下,使用第一清洗液对晶圆进行第一清洗处理;以及在晶圆以第二转速旋转的情况下,使用通入有CO2气体的第二清洗液对晶圆进行第二清洗处理,其中,第二转速小于第一转速。根据该方法,通过在清洗液中加入CO2气体并增加超慢转速的清洗步骤,规避了由于清洗刷与清洗液之间的摩擦所导致的晶圆带电问题,改善了器件的可靠性和稳定性。