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专利状态
光刻胶去除装置及方法
有效
专利申请进度
申请
2020-01-06
申请公布
2020-05-26
授权
2023-10-24
预估到期
2040-01-06
专利基础信息
申请号 CN202010011628.7 申请日 2020-01-06
申请公布号 CN111198482A 申请公布日 2020-05-26
授权公布号 CN111198482B 授权公告日 2023-10-24
分类号 G03F7/42
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 长江存储科技有限责任公司
申请人地址 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
专利法律状态
  • 2023-10-24
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-05-26
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明实施例提供了一种光刻胶去除装置和方法,在进行光刻胶去除处理时,晶圆设置在光刻胶去除装置的承载部件上,并通过所述承载部件的加热将温度保持在第一温度;其中,在所述承载部件的加热过程中,所述光刻胶去除装置的去胶反应腔的腔壁的温度升高;在所述去胶反应腔中使用第一气体中的氢源来执行去除所述晶圆上的光刻胶;其中,所述光刻胶去除装置的温度控制子装置将所述去胶反应腔的腔壁的温度控制在小于第二温度;其中,在所述第二温度下,所述第一气体中的氢源不与所述去胶反应腔的腔壁发生吸附作用。如此,能够在利用氢源与光刻胶反应实现去除光刻胶时,提供较高的去胶效率。