首页
品牌
排行
问答
专题
特惠
资讯
展会
百科
热门行业
装修建材
家居生活
餐饮食品
母婴教育
电脑办公
服装首饰
汽车工具
家电数码
机械化工
休闲美容
热门行业
教育培训
板材
地板
涂料
家纺
集成吊顶
美缝剂
木门
硅藻泥
管材
指纹锁
橱柜
衣柜
床垫
电热水器
集成灶
暖气片
净水器
酒店
卫浴
装修建材
卫浴洁具
板材
地板
建筑陶瓷
天花板
涂料
瓷砖泥瓦
水电管材
火锅
快餐
生活用品
软装
装饰装潢
灯具
家纺
干洗服务
内衣
男装
女装
幼教
整体卫浴
地板砖
阻燃板
铝材
集成吊顶
美缝剂
硅藻泥
管材
烤鱼
汉堡
叶酸
婴儿用品
婴儿床
指纹锁
品牌首页
品牌资讯
企业信息
商标信息
专利信息
返回上一页
专利状态
光刻胶去除装置及方法
有效
专利申请进度
申请
2020-01-06
申请公布
2020-05-26
授权
2023-10-24
预估到期
2040-01-06
专利基础信息
申请号
CN202010011628.7
申请日
2020-01-06
申请公布号
CN111198482A
申请公布日
2020-05-26
授权公布号
CN111198482B
授权公告日
2023-10-24
分类号
G03F7/42
分类
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称
长江存储科技有限责任公司
申请人地址
湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
专利法律状态
2023-10-24
授权
状态信息
授权
2020-05-26
公布
状态信息
公布
摘要
本发明实施例提供了一种光刻胶去除装置和方法,在进行光刻胶去除处理时,晶圆设置在光刻胶去除装置的承载部件上,并通过所述承载部件的加热将温度保持在第一温度;其中,在所述承载部件的加热过程中,所述光刻胶去除装置的去胶反应腔的腔壁的温度升高;在所述去胶反应腔中使用第一气体中的氢源来执行去除所述晶圆上的光刻胶;其中,所述光刻胶去除装置的温度控制子装置将所述去胶反应腔的腔壁的温度控制在小于第二温度;其中,在所述第二温度下,所述第一气体中的氢源不与所述去胶反应腔的腔壁发生吸附作用。如此,能够在利用氢源与光刻胶反应实现去除光刻胶时,提供较高的去胶效率。
更多专利
1
存储器件的读取操作中的基于开放块的读取偏移量补偿
2
用于校准粒子束的垂直度的方法以及应用于半导体制造工艺的系统
3
三维存储器的制作方法及三维存储器
4
高压器件与半导体器件
5
具有处理器和异构存储器的一体化半导体器件及其形成方法
6
半导体结构及其形成方法
7
形成三维存储器的方法以及三维存储器
8
具有降低的阈值电压偏移的三维存储器器件编程
9
闪存颗粒的改进方法、闪存颗粒、存储器和电子设备
10
三维存储装置及其形成方法
11
半导体结构及其形成方法
12
切割方法
13
3D存储器件及其制造方法
14
3D存储器中的堆叠连接件及其制造方法
15
一种显影洗边设备和显影洗边方法
16
MOS晶体管及其制造方法与包含MOS晶体管的三维存储器
17
双堆栈三维NAND存储器以及用于形成其的方法
18
具有富氢半导体沟道的三维存储器件
19
一种3DNAND制作方法及存储器
20
三维存储器、三维存储器的制备方法及电子设备
全国服务热线:
在线客服
1211389656
咨询
商务合作
85926368
咨询
媒体合作
921888730
咨询
在线客服
客服微信号
品牌网官方客服微信
打开微信扫一扫
客服微信
商务合作微信
商务合作详谈
打开微信扫一扫
商务合作
回到顶部