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专利状态
一种光罩的缺陷修复方法及光罩
有效
专利申请进度
申请
2018-07-16
申请公布
2020-01-24
授权
2023-12-01
预估到期
2038-07-16
专利基础信息
申请号
CN201810779833.0
申请日
2018-07-16
申请公布号
CN110727170A
申请公布日
2020-01-24
授权公布号
CN110727170B
授权公告日
2023-12-01
分类号
G03F1/72;G03F1/38
分类
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址
上海市浦东新区张江路18号
专利法律状态
2023-12-01
授权
状态信息
授权
2020-02-25
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G03F1/72;申请日:20180716
2020-01-24
公布
状态信息
公布
摘要
本发明提供一种光罩的缺陷修复方法及光罩,所述方法包括:提供待修复光罩,所述待修复光罩包括遮光层以及形成在所述遮光层中的透光图案,所述透光图案包括具有缺陷的待修复图案;在所述待修复图案的外侧形成透光的若干散射条,以对所述待修复图案进行光补偿。本发明的方法过程更加容易控制,降低产生二次损伤缺陷的风险,可以提高修复合格率,降低修复循环次数。
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