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专利状态
套刻量测系统矫正方法
有效
专利申请进度
申请
2020-10-29
申请公布
2022-05-03
授权
2024-01-26
预估到期
2040-10-29
专利基础信息
申请号
CN202011185631.7
申请日
2020-10-29
申请公布号
CN114428444A
申请公布日
2022-05-03
授权公布号
CN114428444B
授权公告日
2024-01-26
分类号
G03F7/20;G03F9/00
分类
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址
上海市浦东新区张江路18号
专利法律状态
2024-01-26
授权
状态信息
授权
2022-05-20
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G03F7/20;申请日:20201029
2022-05-03
公布
状态信息
公布
摘要
一种套刻量测系统矫正方法,包括:将晶圆置于初始位置;获取当前套刻偏差反映在晶圆层面的旋转量;计算N个信号点当前的统计套刻旋转偏差;重复进行沿光轴方向移动晶圆的步骤,并在移动晶圆后,获取当前套刻偏差反映在晶圆层面的旋转量并计算N个信号点当前的统计套刻旋转偏差,直至所述晶圆移动范围达到预定移动范围;获取所述统计套刻旋转偏差与所述晶圆移动位置的关系图表,以得到最优移动位置;沿光轴方向移动晶圆至最优移动位置,完成矫正,最优移动位置为统计套刻旋转偏差为0值时对应的晶圆移动位置。矫正方法有助于消除信号点处于倾斜面上引起的系统量测误差,进而防止误判。
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