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专利状态
掩膜图形修复方法及掩膜板
有效
专利申请进度
申请
2019-04-24
申请公布
2020-10-30
授权
2023-12-22
预估到期
2039-04-24
专利基础信息
申请号 CN201910336081.5 申请日 2019-04-24
申请公布号 CN111856874A 申请公布日 2020-10-30
授权公布号 CN111856874B 授权公告日 2023-12-22
分类号 G03F1/72;C23C16/30;C23C16/04
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址 上海市浦东新区张江路18号
专利法律状态
  • 2023-12-22
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-10-30
    公布
    状态信息
    公布
摘要
一种掩膜图形修复方法及掩膜板,修复方法包括:提供基板,所述基板上形成有若干掩膜图形,其中部分所述掩膜图形具有缺口;形成填充所述缺口的第一修复层;在所述第一修复层与所述掩膜图形的连接部位形成第二修复层。本发明有助于增加修复层与掩膜图形的黏合强度,其中,所述修复层包括第一修复层及第二修复层,从而防止修复层剥落。