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专利状态
一种离子增强型的卷绕式磁控光学镀膜装置
有效
专利申请进度
申请
2019-04-12
授权
2019-12-17
预估到期
2029-04-12
专利基础信息
申请号
CN201920503557.5
申请日
2019-04-12
授权公布号
CN209798096U
授权公告日
2019-12-17
分类号
C23C14/35;C23C14/56
分类
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称
肇庆市科润真空设备有限公司
申请人地址
广东省肇庆市端州一路南侧(市财贸学校对面)
专利法律状态
2019-12-17
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开一种离子增强型的卷绕式磁控光学镀膜装置,包括旋转辊、镀膜室和氧化室,沿基材的输送方向,旋转辊的外侧依次设有镀膜室和氧化室,旋转辊内侧与氧化室的相对之处设有磁铁组件,磁铁组件中,任意相邻的两个磁铁之间,朝向氧化室的端部极性相反;氧化室内设有进气管,进气管与旋转辊之间连接有电池。本实用新型是在基材镀完氧化硅后,通过增加氧离子密度来加强膜层的氧化效果,从而提高膜层中氧化硅的纯度和膜层透明度,进而提高膜层的光学性能。
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