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专利状态
旋转式磁控靶及卧式磁控溅射镀膜设备
有效
专利申请进度
申请
2016-06-30
授权
2017-01-25
预估到期
2026-06-30
专利基础信息
申请号
CN201620688645.3
申请日
2016-06-30
授权公布号
CN205907351U
授权公告日
2017-01-25
分类号
C23C14/35
分类
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称
肇庆市科润真空设备有限公司
申请人地址
广东省肇庆市端州大道
专利法律状态
2017-01-25
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开一种旋转式磁控靶及卧式磁控溅射镀膜设备,旋转式磁控靶包括靶材、磁芯和磁铁,磁芯设于靶材中部,磁芯外周设有至少一个磁铁,磁铁朝向靶材的一端呈锥形。卧式磁控溅射镀膜设备包括依次连接的前预抽室、前粗抽室、前精抽室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后精抽室、后粗抽室和后预抽室,镀膜室为一个或多个,各镀膜室中设有旋转式磁控靶,旋转式磁控靶位于工件上方。本旋转式磁控靶通过将磁铁末端设计为尖端,增强了磁力线在靶材表面的分布密度,可加大溅射出来的靶材粒子数量,从而提高了工件表面的镀膜效率。将其应用于卧式磁控溅射镀膜设备中,可有效提高工件的镀膜效率,缩短整个工艺线的生产周期,从而提高生产效率。
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