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专利状态
一种高效紧凑型磁控镀膜装置
有效
专利申请进度
申请
2016-12-26
授权
2017-07-07
预估到期
2026-12-26
专利基础信息
申请号
CN201621441419.1
申请日
2016-12-26
授权公布号
CN206308412U
授权公告日
2017-07-07
分类号
C23C14/35;C23C14/56
分类
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称
肇庆市科润真空设备有限公司
申请人地址
广东省肇庆市端州大道
专利法律状态
2017-07-07
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开一种高效紧凑型磁控镀膜装置,包括沿基片输送方向依次连接的粗抽室、精抽室和至少一个镀膜室;镀膜室内设有呈S型的平面靶,平面靶中,靶座中部带有内凹腔体,导磁板设于内凹腔体底部,外圈磁铁和内圈磁铁分布于导磁板上,外圈磁铁围绕于内圈磁铁外周,外圈磁铁和内圈磁铁均呈S型。使用时,基片放置于基片托板上后,由基片输送机构从进出片平台上依次送入粗抽室、精抽室和镀膜室,在镀膜室内,由S型的平面靶对基片表面进行镀膜处理;镀膜完成后,由基片输送机构依次送出镀膜室、精抽室和粗抽室,最后送至进出片平台上;基片的送入方向与送出方向相反。本实用新型具有设备结构紧凑、镀膜效率高的特点。
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