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专利状态
一种高效紧凑型磁控镀膜装置及方法
有效
专利申请进度
申请
2016-12-26
申请公布
2017-05-31
授权
2019-12-17
预估到期
2036-12-26
专利基础信息
申请号 CN201611216893.9 申请日 2016-12-26
申请公布号 CN106756850A 申请公布日 2017-05-31
授权公布号 CN106756850B 授权公告日 2019-12-17
分类号 C23C14/35;C23C14/56
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 肇庆市科润真空设备有限公司
申请人地址 广东省肇庆市端州大道
专利法律状态
  • 2019-12-17
    授权
    状态信息
    授权
  • 2017-06-23
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C23C14/35;申请日:20161226
  • 2017-05-31
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开一种高效紧凑型磁控镀膜装置及方法,其装置包括沿基片输送方向依次连接的粗抽室、精抽室和至少一个镀膜室;镀膜室内设有呈S型的平面靶,平面靶中,靶座中部带有内凹腔体,导磁板设于内凹腔体底部,外圈磁铁和内圈磁铁分布于导磁板上,外圈磁铁围绕于内圈磁铁外周,外圈磁铁和内圈磁铁均呈S型。其方法是基片放置于基片托板上后,由基片输送机构从进出片平台上依次送入粗抽室、精抽室和镀膜室,在镀膜室内,由S型的平面靶对基片表面进行镀膜处理;镀膜完成后,由基片输送机构依次送出镀膜室、精抽室和粗抽室,最后送至进出片平台上;基片的送入方向与送出方向相反。本发明具有设备结构紧凑、镀膜效率高的特点。