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专利状态
一种多室磁控多层光学镀膜设备及镀膜方法
有效
专利申请进度
申请
2021-02-08
申请公布
2021-06-18
授权
2021-10-19
预估到期
2041-02-08
专利基础信息
申请号 CN202110180394.3 申请日 2021-02-08
申请公布号 CN112981346A 申请公布日 2021-06-18
授权公布号 CN112981346B 授权公告日 2021-10-19
分类号 C23C14/35;C23C14/56
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 肇庆市科润真空设备有限公司
申请人地址 广东省肇庆市端州一路南侧(市财贸学校对面)
专利法律状态
  • 2021-10-19
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-07-06
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C23C14/35;申请日:20210208
  • 2021-06-18
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开一种多室磁控多层光学镀膜设备及方法,其设备包括依次连接的工件进出装置、预处理室、工件进出转换室和镀膜室,预处理室和多个镀膜室分布于工件进出转换室外周;工件进出转换室与预处理室之间设有第一真空门阀机构,工件进出转换室与各镀膜室之间设有第二真空门阀机构,预处理室朝向工件进出装置的一侧设有旋转门机构。其方法是先由预处理室对工件架上的工件进行离子表面处理,然后进入工件进出转换室并提升至上部,其中一个镀膜室镀膜完成后通过工件进出转换室将工件架及工件送出,待镀膜的工件架下降并送入镀膜室。本发明可有效改善各镀膜室之间的真空度均匀性,从而改善镀膜后工件膜层性能的一致性,提高工件镀膜质量。