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专利状态
一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法
有效
专利申请进度
申请
2017-08-03
申请公布
2017-10-10
授权
2024-02-02
预估到期
2037-08-03
专利基础信息
申请号 CN201710657221.X 申请日 2017-08-03
申请公布号 CN107236933A 申请公布日 2017-10-10
授权公布号 CN107236933B 授权公告日 2024-02-02
分类号 C23C14/26;C23C14/35;C23C14/46;C23C14/56
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 肇庆市科润真空设备有限公司
申请人地址 广东省肇庆市端州大道
专利法律状态
  • 2024-02-02
    授权
    状态信息
    授权
  • 2017-10-10
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法,其设备包括依次连接的放卷室、离子处理室、多个镀膜室和收卷室,离子处理室和多个镀膜室沿镀膜水冷辊的外周进行分布,放卷室和收卷室分别设于镀膜水冷辊的两侧;多个镀膜室中,位于中部的镀膜室中设置连续式蒸发镀膜源,其余各镀膜室中设置中频磁控靶。其方法是柔性基材完成离子处理后,沿镀膜水冷辊的转动依次送入各个镀膜室中,先由中频磁控靶对柔性基材表面进行至少一次溅射镀膜,然后通过连续式蒸发镀膜源对柔性基材进行蒸发镀膜,再由中频磁控靶对柔性基材表面进行至少一次溅射镀膜,最后送出。本发明可实现柔性基材表面厚膜层的镀制,镀膜效率高,膜层表面均匀性也高。