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专利状态
石墨舟饱和工艺
有效
专利申请进度
申请
2018-08-20
申请公布
2019-01-11
授权
2020-07-28
预估到期
2038-08-20
专利基础信息
申请号 CN201810946922.X 申请日 2018-08-20
申请公布号 CN109183000A 申请公布日 2019-01-11
授权公布号 CN109183000B 授权公告日 2020-07-28
分类号 C23C16/458;H01L31/18
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 常州亿晶光电科技有限公司
申请人地址 江苏省常州市金坛市尧塘镇金武路18号
专利法律状态
  • 2020-07-28
    授权
    状态信息
    授权
  • 2019-02-12
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/458
  • 2019-01-11
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明提供一种石墨舟饱和工艺,通过使用15%‑20%氢氟酸去除石墨舟片表面沉积的氮化硅,再使用纯水对石墨舟片进行漂洗,清洗完成后,用烘箱对石墨舟片进行烘干,使用PECVD对其进行预处理,通入硅烷和笑气N2O,开放射频功率,使其结构间二氧化硅呈电中性,且氧化物热化学稳定性强,重复沉积氮氧化硅,直至沉积总时间达到2500s。本发明提供的一种石墨舟饱和工艺,采用间歇式多次沉积方式,减少整个流程时间,优化工艺时间,使其表面氮化硅均匀性较好,有利于工艺时候石墨舟表面导热以及导电的均匀性,在里层增加了氮氧化硅在工艺射频时候充分保护了石墨舟,增加了石墨舟的使用寿命。