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专利状态
一种辅热型PECVD管式镀膜炉
有效
专利申请进度
申请
2022-08-19
授权
2023-02-03
预估到期
2032-08-19
专利基础信息
申请号 CN202222210469.0 申请日 2022-08-19
授权公布号 CN218435947U 授权公告日 2023-02-03
分类号 C23C16/50;C23C16/46
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 常州亿晶光电科技有限公司
申请人地址 江苏省常州市金坛区尧塘镇金武路18号
专利法律状态
  • 2023-02-03
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型提供了一种辅热型PECVD管式镀膜炉,包括炉体、炉管和辅助加热装置,炉管沿炉体内壁环向间隔分布,辅助加热装置包括单行硅片加热装置和单列硅片加热装置,单行硅片加热装置沿石墨舟单行硅片方向布置在炉体内壁上;炉体内壁沿石墨舟单行硅片方向开有滑槽,单列硅片加热装置包括可移动加热电阻丝,该可移动加热电阻丝长度与石墨舟单列硅片宽度一致并平行于石墨舟单列硅片方向,可移动加热电阻丝滑动设置在滑槽上。本实用新型结构设计合理,设计可移动加热的电阻丝对石墨舟的单列硅片方向进行加热,可对应移动至石墨舟任意一列位置,在开启加热后提升厚度偏低区域的温度进而改善该区域厚度,使得镀膜整体均匀性得到改善。