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专利状态
磁控溅射旋转靶
失效
专利申请进度
申请
2014-02-11
授权
2014-07-30
预估到期
2024-02-11
专利基础信息
申请号 CN201420062629.4 申请日 2014-02-11
授权公布号 CN203741407U 授权公告日 2014-07-30
分类号 C23C14/35
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 广州市尤特新材料有限公司
申请人地址 广东省广州市花都区花山镇华侨工业园
专利法律状态
  • 2024-03-05
    专利权的终止
    状态信息
    专利权有效期届满;IPC(主分类):C23C14/35;申请日:20140211;授权公告日:20140730
  • 2014-07-30
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型涉及一种磁控溅射旋转靶,包括管状的衬管和固定套接在衬管外壁上并随衬管旋转的靶材,所述衬管和靶材的连接面上设有中间层,所述中间层为导电胶。本实用新型的中间层采用导电胶将衬管和靶材绑定连接,由于导电胶的导电导热性非常优良,并且粘合能力很强,其固化后不会产生流动,可以替代昂贵的铟金属,节省了成本,更有利于提高衬管与靶材的导电导热能力;溅射过程中,溅射功率越大产生的热量越大,在达到铟的熔点后容易脱靶,与铟相比,导电胶的分解温度为铟的一倍以上,即使是较大的溅射功率也不会造成脱靶,使得安全性极大提高。本实用新型可应用于真空磁控溅射。