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专利状态
冷绑定式磁控溅射旋转靶材
有效
专利申请进度
申请
2021-06-02
授权
2021-11-26
预估到期
2031-06-02
专利基础信息
申请号 CN202121216787.7 申请日 2021-06-02
授权公布号 CN214881801U 授权公告日 2021-11-26
分类号 C23C14/35
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 广州市尤特新材料有限公司
申请人地址 广东省广州市花都区花山镇华侨科技工业园华辉路4号
专利法律状态
  • 2021-11-26
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型涉及磁控溅射靶材制备技术领域,特别涉及一种冷绑定式磁控溅射旋转靶材。该冷绑定式磁控溅射旋转靶材的多个弹性簧片分别装在背管外壁的多个卡槽内,弹性簧片凸出于卡槽外,靶管套装在装有弹性簧片的背管上的状态下,弹性簧片同时弹性抵紧靶管内壁和背管外壁以使靶管稳固地装到背管上。冷绑定式磁控溅射旋转靶材利用导电导热性良好的弹性簧片通过物理连接的方式将旋转靶材的背管和靶管安装在一起,弹性簧片与两者的接触面积大,旋转靶材整体具有良好的导电传热性能。