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专利状态
具有背管安装间隔结构的旋转靶材
有效
专利申请进度
申请
2022-09-13
授权
2023-04-25
预估到期
2032-09-13
专利基础信息
申请号 CN202222420955.5 申请日 2022-09-13
授权公布号 CN218910498U 授权公告日 2023-04-25
分类号 C23C14/35
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 广州市尤特新材料有限公司
申请人地址 广东省广州市花都区花山镇华侨科技工业园华辉路4号
专利法律状态
  • 2023-04-25
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实新涉及磁控溅射靶材技术领域,特别涉及一种具有背管安装间隔结构的旋转靶材。背管安装间隔结构包括内衬管和两个分别安装在背管两端的安装法兰,内衬管是内部中空、两端开口的圆长管,两个安装法兰相对地设有安装通孔,安装旋转靶材时,磁控溅射设备的磁棒放置在内衬管内部,内衬管插入背管内部,然后对背管进行缩口处理以使背管端部的最小内径小于内衬管端部的最大外径,从而限制内衬管放置于背管内部时的活动空间,在磁棒两端固定好安装法兰,由于内衬管与背管之间存在间隙,即便磁棒吸附在内衬管上,将安装法兰连接到磁控溅射设备时,能够通过拨动内衬管来调整磁棒和安装法兰相对磁控溅射设备的位置,便于磁棒和旋转靶材安装。