导电铜排、挂架组件以及电镀设备

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专利状态

导电铜排、挂架组件以及电镀设备

有效

专利申请进度

申请

2020-09-10

申请公布

2022-03-11

授权

2023-03-28

预估到期

2040-09-10

专利基础信息

申请号	CN202010947792.9	申请日	2020-09-10
申请公布号	CN114164476A	申请公布日	2022-03-11
授权公布号	CN114164476B	授权公告日	2023-03-28
分类号	C25D17/00;C25D17/08
分类	电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕;
申请人名称	深南电路股份有限公司
申请人地址	广东省深圳市龙岗区坪地街道盐龙大道1639号

专利法律状态

2023-03-28

授权

状态信息

授权
2022-03-11

公布

状态信息

公布

摘要

本申请公开了一种导电铜排、挂架组件以及电镀设备，该电铜排包括：固定端，固定端上形成有固定孔，固定端通过固定孔与挂架固定连接；凹槽，凹槽设置于固定端的一端；至少两个接触凸台，接触凸台设置于凹槽中，用于与垂直连续电镀线导电铜排接触导电。本申请通过设置至少两个接触凸台，增加导电铜排与垂直连续电镀线的导电铜排的接触点位，改善垂直连续电镀线的导电铜排与挂架导电铜排因脏污接触不良的问题，提高垂直连续电镀设备的镀铜效果。

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