在线监测氮化硅膜厚折射率的装置_专利查询-品牌网

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专利状态

在线监测氮化硅膜厚折射率的装置

有效

专利申请进度

申请

2017-08-31

授权

2018-03-16

预估到期

2027-08-31

专利基础信息

申请号	CN201721113048.9	申请日	2017-08-31
授权公布号	CN207116376U	授权公告日	2018-03-16
分类号	H01L21/66;H01L21/67
分类	基本电气元件;
申请人名称	常州亿晶光电科技有限公司
申请人地址	江苏省常州市金坛市尧塘镇金武路18号

专利法律状态

2018-03-16

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及硅片生产设备技术领域，尤其涉及一种在线监测氮化硅膜厚折射率的装置，本实用新型的在线监测氮化硅膜厚折射率的装置，能够在线实时监测膜厚折射率，实现膜厚折射率有效的管控，减少膜厚折射率异常带来的效率损失，减少颜色分选过程中造成的摩擦痕，节约人工成本，结构简单，操作方便，便于推广和应用。

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