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专利状态

硅片自动清洗装置

有效

专利申请进度

申请

2016-12-30

申请公布

2017-05-31

授权

2022-09-20

预估到期

2036-12-30

专利基础信息

申请号	CN201611258997.6	申请日	2016-12-30
申请公布号	CN106733917A	申请公布日	2017-05-31
授权公布号	CN106733917B	授权公告日	2022-09-20
分类号	B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67
分类	清洁;
申请人名称	常州亿晶光电科技有限公司
申请人地址	江苏省常州市金坛市尧塘镇金武路18号

专利法律状态

2022-09-20

授权

状态信息

授权
2017-05-31

公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及清洗设备技术领域，尤其是涉及一种硅片自动清洗装置，包括机架及设置在机架上的水槽，所述水槽内设有超声波发生器，所述机架上滑动设置有支架，所述支架上转动设置有用于输送硅片的输送辊，所述机架上设有第一电机，所述水槽内转动设置有主动摩擦轮，本发明能够实现自动对硅片进行清洗，提高了工作效率，避免了现有的硅片在清洗时需要人工将硅片放入清洗设备内，然后在硅片完成清洗后，再由人工将清洗好的硅片拿出，这样只能适用于小规模生产，当硅片产量比较大时，人工操作起来就比较麻烦，跟不上生产需要，导致生产效率降低的问题。

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