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专利状态
硅片清洁装置
有效
专利申请进度
申请
2017-04-14
申请公布
2017-06-27
授权
2023-06-20
预估到期
2037-04-14
专利基础信息
申请号
CN201710245583.8
申请日
2017-04-14
申请公布号
CN106898570A
申请公布日
2017-06-27
授权公布号
CN106898570B
授权公告日
2023-06-20
分类号
H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683;H01L21/68
分类
基本电气元件;
申请人名称
常州亿晶光电科技有限公司
申请人地址
江苏省常州市金坛市尧塘镇金武路18号
专利法律状态
2023-06-20
授权
状态信息
授权
2017-07-21
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):H01L21/67;申请日:20170414
2017-06-27
公布
状态信息
公布
摘要
本发明提供一种硅片清洁装置,包括转盘、传送机构、限位机构、顶板机构以及清洁机构,限位机构包括矩形限位框,限位框设于上料工位工作台上方,限位框上端设有第一驱动装置;顶板机构包括依次连接的弯管接头和支撑块,弯管接头一端与工作台底端固定连接,弯管接头另一端与支撑块固定连接,支撑块为外径与弯管接头外径相同的四分之一圆形结构,支撑块圆心与转盘底端铰接,支撑块上设有第二驱动装置;清洁机构包括风刀、毛刷以及用于固定风刀和毛刷的支架,支架上设有第三驱动装置。本发明提供的一种硅片清洁装置,采用转盘、传送机构、限位机构、顶板机构以及清洁机构将硅片竖直设置并清洁硅片表面,提高清洁质量,保证印刷质量。
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