超声波指纹传感器及其制造方法

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专利状态

超声波指纹传感器及其制造方法

有效

专利申请进度

申请

2017-04-14

申请公布

2017-08-25

授权

2023-06-20

预估到期

2037-04-14

专利基础信息

申请号	CN201710245690.0	申请日	2017-04-14
申请公布号	CN107092880A	申请公布日	2017-08-25
授权公布号	CN107092880B	授权公告日	2023-06-20
分类号	G06V40/13;H10N39/00;H01L21/82
分类	计算；推算；计数;
申请人名称	杭州士兰微电子股份有限公司
申请人地址	浙江省杭州市黄姑山路4号

专利法律状态

2023-06-20

授权

状态信息

授权
2017-09-19

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G06K9/00；申请日:20170414
2017-08-25

公布

状态信息

公布

摘要

本申请公开了超声波指纹传感器及其制造方法。所述方法包括：形成CMOS电路；以及在所述CMOS电路上形成超声波换能器。在该方法中，形成超声波换能器的步骤包括：形成模板层；在所述模板层中形成第一开口；在所述模板层上形成停止层，所述停止层共形地覆盖所述模板层；在所述停止层上形成牺牲层，所述牺牲层填充所述第一开口；在所述停止层和所述牺牲层上形成掩模层，所述掩模层覆盖所述牺牲层；在所述掩模层上形成到达所述牺牲层的至少一个第二开口；经由所述至少一个第二开口去除所述牺牲层形成空腔，以及在所述掩模层上形成压电叠层。该方法利用模板层和停止层形成空腔，从而可以降低制造成本以及提高传感器的性能。

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