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专利状态
一种投射模组、成像装置以及光学设备
有效
专利申请进度
申请
2021-11-29
授权
2022-05-31
预估到期
2031-11-29
专利基础信息
申请号 CN202122959732.1 申请日 2021-11-29
授权公布号 CN216646799U 授权公告日 2022-05-31
分类号 G01S7/481;G02B27/42
分类 测量;测试;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
  • 2022-05-31
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本申请提供了一种投射模组、成像装置以及光学设备,其中,上述投射模组包括光源和光学组件,其中,所述光源的光轴与所述投射模组的光场中轴不重合;所述光源用于发射激光;所述光学组件用于准直所述光源发射的激光以形成散斑图案,所述散斑图案沿所述投射模组的光场中轴呈非对称分布。本申请提供的投射模组能够使散斑图案沿所述投射模组的光场中轴呈非对称分布,进而在减少成像装置的无效光场的同时,减少成像装置的组装难度和控制难度。