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专利状态
光学投影装置及其深度相机
有效
专利申请进度
申请
2017-07-07
申请公布
2017-08-29
授权
2022-08-02
预估到期
2037-07-07
专利基础信息
申请号 CN201710553149.6 申请日 2017-07-07
申请公布号 CN107102506A 申请公布日 2017-08-29
授权公布号 CN107102506B 授权公告日 2022-08-02
分类号 G03B21/20;G03B21/14
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
  • 2022-08-02
    授权
    状态信息
    授权
  • 2017-08-29
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明提供一种光学投影装置及应用其的深度相机,包括由半导体衬底以及设置在所述半导体衬底上的光源阵列组成的光源,所述光源用于发射光束;电路板,安装在所述半导体衬底上并开有通孔,所述通孔使得所述光束通过;光束生成器,安装在所述电路板上并用于接收所述光束后向外投射出图案光束;以及底座,所述底座安装在与所述电路板相对的所述半导体衬底的表面上,用于提供对所述光源的支撑和/或散热。本发明的光学投影装置具有体积小、散热性能高且结构稳定的特点,能够作为深度相机的一部分被集成到微型计算设备中。