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专利状态
距离测量系统及计算被测物反射率的方法、装置、设备
有效
专利申请进度
申请
2021-07-07
申请公布
2021-10-15
授权
2022-10-25
预估到期
2041-07-07
专利基础信息
申请号
CN202110769034.7
申请日
2021-07-07
申请公布号
CN113504542A
申请公布日
2021-10-15
授权公布号
CN113504542B
授权公告日
2022-10-25
分类号
G01S17/10;G01S7/48;G01N21/55
分类
测量;测试;
申请人名称
奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址
广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
2022-10-25
授权
状态信息
授权
2021-12-17
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G01S17/10;申请日:20210707
2021-10-15
公布
状态信息
公布
摘要
本发明提供一种距离测量系统及计算被测物反射率的方法、装置、设备,包括:发射器、采集器、以及处理电路;发射器经配置以朝向被测物发射信号光束;采集器包括像素单元以及读出电路,像素单元用于对被测物反射回的信号光束中的单个光子进行响应并输出光子信号,读出电路用于接收光子信号进行处理并输出直方图;处理电路与发射器以及采集器连接,用于接收直方图计算环境光子数均值以及信号光子数,并根据信号光子数计算被测物的反射率。本发明通过监测信号光子数来计算待测物体的反射率,提供了被测物体除3D点云数据外的第四维信息,即反射率,实现了4D测量,提供更为全面的信息来表述被测物体。
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