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专利状态
一种融合的深度测量装置及测量方法
有效
专利申请进度
申请
2019-12-18
申请公布
2020-04-21
授权
2022-06-28
预估到期
2039-12-18
专利基础信息
申请号
CN201911306106.3
申请日
2019-12-18
申请公布号
CN111045029A
申请公布日
2020-04-21
授权公布号
CN111045029B
授权公告日
2022-06-28
分类号
G01S17/894;G01S17/10
分类
测量;测试;
申请人名称
奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址
广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
2022-06-28
授权
状态信息
授权
2020-04-21
公布
状态信息
公布
摘要
本发明公开了一种融合的深度测量装置,包括发射模块,用于向目标物体发射振幅时序被调制的斑点图案光束;接收模块,接收目标物体反射的斑点图案光束并形成电信号;控制和处理电路,接收所述电信号并计算得到TOF深度图和结构光图案,将所述TOF深度图中的深度值作为可靠点,赋值到所述结构光深度图中对应像素位置,并利用所述可靠点校正所述结构光深度图,最终得到目标物体的深度图像。本发明基于TOF深度值具有较高的测量精度,以TOF深度值为依据校正结构光深度图因匹配计算所引起的误差,获得高精度的深度图,结合结构光测量的高分辨的优点,实现了一种高精度、高分辨率、低功耗、小型化的深度测量装置。
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