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专利状态
一种基于TOF的深度测量装置、方法及电子设备
有效
专利申请进度
申请
2020-05-24
申请公布
2020-10-02
授权
2023-04-11
预估到期
2040-05-24
专利基础信息
申请号 CN202010445256.9 申请日 2020-05-24
申请公布号 CN111736173A 申请公布日 2020-10-02
授权公布号 CN111736173B 授权公告日 2023-04-11
分类号 G01S17/894;G01S7/48;G01S7/481;G01S7/4861;G01S17/10
分类 测量;测试;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
  • 2023-04-11
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-10-02
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种基于TOF的深度测量装置,包括:光发射模组,用于向目标物体发射光束;成像模组,用于采集经目标物体反射回的反射光束并生成相应的电信号,以及采集目标物体的二维图像;控制与处理器,分别与光发射模组以及成像模组连接,用于控制光发射模组发射被调制的发射光束;以及,同步触发成像模组开启接收所述电信号和二维图像,对所述电信号进行计算以获得目标物体的一个或多个TOF深度值,同时利用所述二维图像进行深度学习以获得相对深度值,进而基于相对深度值从一个或多个TOF深度值中确定实际深度值。通过对二维图像进行深度学习以得到相对深度值,基于该相对深度值辅助ToF解卷绕,从而提升深度图的精度。