一种MLCC凹版印刷图层_专利查询-品牌网

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专利状态

一种MLCC凹版印刷图层

有效

专利申请进度

申请

2021-08-19

授权

2022-01-21

预估到期

2031-08-19

专利基础信息

申请号	CN202121963559.6	申请日	2021-08-19
授权公布号	CN215590202U	授权公告日	2022-01-21
分类号	B41C1/00
分类	印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕;
申请人名称	广东风华高新科技股份有限公司
申请人地址	广东省肇庆市风华路18号风华电子工业城

专利法律状态

2022-01-21

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种MLCC凹版印刷图层，所述MLCC凹版印刷图层包括：芯片区域和至少一个引流辅助区域；所述引流辅助区域设置在所述芯片区域的顶角位置；所述芯片区域设有形成电极图形的多条电极凹槽，所述引流辅助区域设有引流辅助凹槽和多条存储凹槽，所述引流辅助凹槽与每条所述电极凹槽连通，所述引流辅助凹槽分别与多条所述存储凹槽连接，且相邻所述存储凹槽相互之间间隔设置，以使所述引流辅助凹槽将每条所述电极凹槽的浆料引流排放至所述存储凹槽。本实用新型通过引流辅助区域将芯片区域内的浆料进行引流排放，以避免因芯片区域的内藏浆量过多而导致的浆料渗出使印刷图形不完整的问题，可提高产品的成品合格率。

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