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专利状态
一种多模式跟踪器系统
有效
专利申请进度
申请
2021-01-08
申请公布
2021-06-01
授权
2022-12-09
预估到期
2041-01-08
专利基础信息
申请号
CN202110024827.6
申请日
2021-01-08
申请公布号
CN112880557A
申请公布日
2021-06-01
授权公布号
CN112880557B
授权公告日
2022-12-09
分类号
G01B11/00;G01B11/24
分类
测量;测试;
申请人名称
武汉中观自动化科技有限公司
申请人地址
湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道308号(凤凰园中路交汇处)光谷动力节能环保产业园内6号楼5层15号
专利法律状态
2022-12-09
授权
状态信息
授权
2021-06-01
公布
状态信息
公布
摘要
本发明涉及一种多模式跟踪器系统,包括至少两个的跟踪器或球扫设备;跟踪器系统的工作模式包括:单跟踪器多球扫工作模式、多跟踪器单球扫工作模式和多跟踪器多球扫工作模式;通过不同数量的跟踪器及扫描设备相互配合,实现支持多种模式工作;单跟踪器多球扫工作模式下,可以在单位时间内提高扫描速率,这种工作模式针对那些多时间要求严格的场景,如自动化流水线场景;多跟踪器单球扫工作模式下,可以在拓展跟踪扫描的范围,这种工作模式针对大工件,大场景,如扫描整车或者重型机械的工件;多跟踪器多球扫跟踪模式下,既可以拓展跟踪区域,又可以提高扫描速率;可以根据具体场景要求选择合适的工作模式,跟踪式三维激光扫描具有更多的应用场景。
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