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专利状态
一种功率半导体装置
有效
专利申请进度
申请
2020-07-09
申请公布
2022-01-11
授权
2023-04-25
预估到期
2040-07-09
专利基础信息
申请号 CN202010658683.5 申请日 2020-07-09
申请公布号 CN113921603A 申请公布日 2022-01-11
授权公布号 CN113921603B 授权公告日 2023-04-25
分类号 H01L29/739;H01L29/423;H01L29/36;H01L29/06;H01L27/082
分类 基本电气元件;
申请人名称 华大半导体有限公司
申请人地址 上海市浦东新区中科路1867号A座9层
专利法律状态
  • 2023-04-25
    授权
    状态信息
    授权
  • 2022-01-11
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明提供一种功率半导体装置,包括有源区、围绕有源区的终端区以及位于有源区及终端区之间的过渡区,有源区设置有第一半导体器件,过渡区设置有第二半导体器件,其中,第一半导体器件的源极及第二槽部内的导电层与发射极电连接,第一槽部内的导电层及第三槽部内的导电层与栅极电连接,第二半导体器件的源极、第二槽部内的导电层及第二槽部与第三槽部之间的阱区与发射极电连接,第一槽部内的导电层及第三槽部内的导电层与栅极电连接。本发明在器件导通时能够有效提高器件正面存储的空穴浓度,降低导通压降及导通损耗,在器件关断时能够快速释放空穴,降低关断损耗,提高器件的抗闩锁能力,提升器件可靠性。