深度相机及其投影模组_专利查询-品牌网

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专利状态

深度相机及其投影模组

有效

专利申请进度

申请

2018-02-07

申请公布

2018-08-10

授权

2024-03-08

预估到期

2038-02-07

专利基础信息

申请号	CN201810124556.X	申请日	2018-02-07
申请公布号	CN108388071A	申请公布日	2018-08-10
授权公布号	CN108388071B	授权公告日	2024-03-08
分类号	G03B21/20;G02B27/48;G02B27/42
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址	广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼

专利法律状态

2024-03-08

授权

状态信息

授权
2021-01-29

著录事项变更

状态信息

著录事项变更；IPC(主分类):G03B21/20；变更事项:申请人；变更前:深圳奥比中光科技有限公司；变更后:奥比中光科技集团股份有限公司；变更事项:地址；变更前:518000 广东省深圳市南山区学府路63号高新区联合总部大厦12楼；变更后:518000 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
2018-09-04

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G03B21/20；申请日:20180207
2018-08-10

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种深度相机及其投影模组，该投影模组包括衬底；以规则晶格的形式排列在所述衬底上的光源；所述光源包括多个子光源，多个所述子光源排列构成多个子光源阵列，分别用于发射多个不规则的、疏密不同的光束阵列；所述子光源阵列由规则晶格上多个位置不同的所述子光源交错排列构成；透镜，用于准直或聚焦所述光束阵列，并向外发射与所述光束阵列相对应的斑点图案光束。本发明的投影模组不再以不规则晶格来设置光源，通过在一个规则晶格上设置的多个子光源构成的多个子光源阵列以分别发射多个不规则的、疏密不同的光束阵列，从而实现结构光的投影，降低了投影模组的设计、生产、制造成本。

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