• 热门行业
  • 装修建材
  • 家居生活
  • 餐饮食品
  • 母婴教育
  • 电脑办公
  • 服装首饰
  • 汽车工具
  • 家电数码
  • 机械化工
  • 休闲美容
返回上一页
专利状态
一种深度测量装置及测量方法
有效
专利申请进度
申请
2019-12-28
申请公布
2020-04-17
授权
2022-05-27
预估到期
2039-12-28
专利基础信息
申请号 CN201911384727.3 申请日 2019-12-28
申请公布号 CN111025318A 申请公布日 2020-04-17
授权公布号 CN111025318B 授权公告日 2022-05-27
分类号 G01S17/36;G01S17/89;G01S7/481;G01S7/497
分类 测量;测试;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
  • 2022-05-27
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-04-17
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种深度测量装置,包括发射单元、接收单元、以及控制与处理电路;其中,发射单元发射脉冲光束投射至目标区域;接收单元包括有TOF图像传感器和变焦透镜,TOF图像传感器采集目标区域反射回的至少部分光束中的光子并形成光子信号,变焦透镜将反射光束投射到TOF图像传感器的像素中;控制与处理电路接收光子信号以形成测量直方图,根据测量直方图得到测量波形,将测量波形与预存储的参考波形进行匹配计算,根据匹配结果调整变焦透镜的焦距,进而调整TOF图像传感器采集光束的视场角。本发明可以在探测时实时调整传感器的视场角,保证传感器在不同情况下均可接收到有效的响应信号,提高了装置的探测精度。