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专利状态
一种抠图模型训练、图像抠图的方法及装置
有效
专利申请进度
申请
2021-03-11
申请公布
2021-06-29
授权
2023-07-04
预估到期
2041-03-11
专利基础信息
申请号
CN202110264893.0
申请日
2021-03-11
申请公布号
CN113052868A
申请公布日
2021-06-29
授权公布号
CN113052868B
授权公告日
2023-07-04
分类号
G06T7/194
分类
计算;推算;计数;
申请人名称
奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址
广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
2023-07-04
授权
状态信息
授权
2021-07-16
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G06T7/194;申请日:20210311
2021-06-29
公布
状态信息
公布
摘要
本申请适用于图像处理的技术领域,提供一种抠图模型训练、图像抠图的方法及装置,所述校正方法包括:获取训练样本集合、初始教师模型以及初始学生模型;通过所述训练样本集合,训练所述初始教师模型得到目标教师模型以及所述目标教师模型输出的第一透明度蒙版;分别将所述目标教师模型中的第一权重参数迁移至所述初始学生模型中的各个子网络中,得到过渡学生模型;根据所述第一透明度蒙版以及所述训练样本集合,训练所述过渡学生模型得到抠图模型。由于抠图模型不仅拥有目标教师模型中的第一权重参数,且不断学习目标教师模型输出的第一透明度蒙版,故在保证处理精度的前提下,巧妙地缩减了模型的体量以及处理时长。
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