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专利状态
一种深度测量装置及测量方法
有效
专利申请进度
申请
2019-12-18
申请公布
2020-05-08
授权
2023-03-24
预估到期
2039-12-18
专利基础信息
申请号 CN201911305980.5 申请日 2019-12-18
申请公布号 CN111123289A 申请公布日 2020-05-08
授权公布号 CN111123289B 授权公告日 2023-03-24
分类号 G01S17/89;G01S7/48;G01S7/481;G01S7/51
分类 测量;测试;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
  • 2023-03-24
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-05-08
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种深度测量装置,包括:发射模块,其包括光源阵列,所述光源阵列包括至少两个子光源阵列,以分别发射第一和第二斑点图案光束;其中,所述第一、第二斑点图案光束是在时序上振幅被调制的光束;接收模块,其包括有TOF图像传感器,所述传感器包括有像素阵列,所述像素阵列接收目标物体反射的第一斑点图案光束获取强度信息;或,接收目标物体反射的第二斑点图案光束获取相位信息;控制和处理电路,利用所述强度信息以形成灰度图,并利用所述灰度图计算出结构光深度图像;或,利用所述相位信息计算出相位差,基于所述相位差计算出TOF深度图像。本发明基于不同的测量需求可进行合理的调制,从而可满足不同应用场景的需要。