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专利状态

背散射检查系统

有效

专利申请进度

申请

2020-09-11

申请公布

2022-03-11

授权

2024-01-12

预估到期

2040-09-11

专利基础信息

申请号	CN202010954645.4	申请日	2020-09-11
申请公布号	CN114166875A	申请公布日	2022-03-11
授权公布号	CN114166875B	授权公告日	2024-01-12
分类号	G01N23/203;G01N23/20008;G01V5/222
分类	测量；测试;
申请人名称	同方威视技术股份有限公司
申请人地址	北京市海淀区双清路同方大厦A座2层

专利法律状态

2024-01-12

授权

状态信息

授权
2022-03-29

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01N23/203；申请日:20200911
2022-03-11

公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及背散射检查系统。公开了一种背散射检查系统，包括：X射线源，用于生成X射线；笔束形成装置，用于将X射线源生成的X射线调制成X射线笔束；两个探测器，用于接收在调制的X射线笔束照射到待检查物体后背散射的X射线，两个探测器间隔开布置以形成缝隙，探测器包括用于朝向待检查物体的接收面；和屏蔽装置，位于邻近两个探测器之间的缝隙和/或探测器的接收面处，用于降低在X射线笔束到达待检查物体之前引起的散射对探测器的影响。

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