臂架、移动式辐射探测设备、验收系统和安检方法

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专利状态

臂架、移动式辐射探测设备、验收系统和安检方法

有效

专利申请进度

申请

2021-07-13

申请公布

2023-01-17

授权

2023-12-15

预估到期

2041-07-13

专利基础信息

申请号	CN202111074033.7	申请日	2021-07-13
申请公布号	CN115616008A	申请公布日	2023-01-17
授权公布号	CN115616008B	授权公告日	2023-12-15
分类号	G01N23/04;G01V5/00;G01B11/02;F16M11/04;F16M11/06;F16M11/18;B62D63/04
分类	测量；测试;
申请人名称	同方威视技术股份有限公司
申请人地址	北京市海淀区双清路同方大厦A座2层

专利法律状态

2023-12-15

授权

状态信息

授权
2023-02-10

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01N23/04；申请日:20210713
2023-01-17

公布

状态信息

公布

摘要

本公开提出一种臂架、移动式辐射探测设备、验收系统和安检方法，涉及安检技术领域。本公开的一种臂架，包括：顶臂；纵臂；和，横向探测位移探测设备，包括：位置标定机构，位于沿顶臂的延伸方向的第一端的区域，固定于顶臂、纵臂或与顶臂连接的探测车的侧面，朝向位移探测器；和位移探测器，位于沿顶臂的延伸方向的第二端的区域，固定于顶臂、纵臂或与顶臂连接的车辆的侧面，与位置标定机构的安装高度一致，朝向位置标定机构，被配置为获取位置标定机构相对于位移探测器的位置变化情况，生成位移数据并输出；其中，位移标定机构与位移探测器不同时固定于顶臂。这样的臂架能够提高采用该臂架的移动式辐射探测设备的探测准确度。

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