用于检测m层结构被检物的背散射检查装置

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专利状态

用于检测m层结构被检物的背散射检查装置

有效

专利申请进度

申请

2023-02-15

申请公布

2023-03-28

授权

2023-04-28

预估到期

2043-02-15

专利基础信息

申请号	CN202310112882.X	申请日	2023-02-15
申请公布号	CN115855990A	申请公布日	2023-03-28
授权公布号	CN115855990B	授权公告日	2023-04-28
分类号	G01N23/20008;G01N23/203
分类	测量；测试;
申请人名称	同方威视技术股份有限公司
申请人地址	北京市海淀区双清路同方大厦A座2层

专利法律状态

2023-04-28

授权

状态信息

授权
2023-03-28

公布

状态信息

公布

摘要

本发明提供了一种用于检测m层结构被检物的背散射检查装置，应用于探测技术领域，m层结构被检物至少包括外层结构体和内层结构体，m为大于等于2的整数，背散射检查装置包括射线发生器、n个探测器和屏蔽组件，射线发生器设于外层结构体的上方，被构造为向m层结构被检物发射入射射线；n个探测器设于外层结构体的上方，且位于入射射线的周向方向上，以接收入射射线射在内层结构体上散射的内层散射射线，n为大于等于1的整数；屏蔽组件被构造为至少部分包围探测器，以遮挡部分入射射线射至探测器，和遮挡入射射线射在外层结构体上散射的外层散射射线射至探测器。背散射检查装置具有防干扰能力强，可以实现精准检查的优点。

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