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专利状态

辐射扫描检查设备

有效

专利申请进度

申请

2019-10-16

申请公布

2021-04-16

授权

2024-02-02

预估到期

2039-10-16

专利基础信息

申请号	CN201910981939.3	申请日	2019-10-16
申请公布号	CN112666622A	申请公布日	2021-04-16
授权公布号	CN112666622B	授权公告日	2024-02-02
分类号	G01V5/00;G01N23/04;G01N23/203;B60B33/04
分类	测量；测试;
申请人名称	同方威视技术股份有限公司
申请人地址	北京市海淀区双清路同方大厦A座2层

专利法律状态

2024-02-02

授权

状态信息

授权
2021-04-16

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开一种辐射扫描检查设备，具有工作状态和运输状态，包括：基部，包括位于所述辐射扫描检查设备相对两侧的第一纵向部和第二纵向部；主梁，设于所述基部上方，在所述工作状态的高度大于在所述运输状态的高度；升降装置，设于所述基部上，用于在所述工作状态和所述运输状态切换时升降所述主梁；支座体，相对所述基部可分离，在所述工作状态，设于所述主梁和所述基部之间，在所述运输状态，与所述基部分离，以使所述主梁与所述基部直接相连。本发明的辐射扫描检查设备便于在工作状态和运输状态之间切换。

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