用于辐射检查的探测器及探测装置

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专利状态

用于辐射检查的探测器及探测装置

有效

专利申请进度

申请

2019-12-25

申请公布

2021-06-25

授权

2024-01-19

预估到期

2039-12-25

专利基础信息

申请号	CN201911363127.9	申请日	2019-12-25
申请公布号	CN113031044A	申请公布日	2021-06-25
授权公布号	CN113031044B	授权公告日	2024-01-19
分类号	G01T1/20
分类	测量；测试;
申请人名称	同方威视技术股份有限公司
申请人地址	北京市海淀区双清路同方大厦A座2层

专利法律状态

2024-01-19

授权

状态信息

授权
2021-07-13

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01T1/20；申请日:20191225
2021-06-25

公布

状态信息

公布

摘要

本申请提供了一种用于辐射检查的探测器，包括：灵敏介质，被配置为与入射到探测器的入射光进行反应，从而产生高能辐射光和低能辐射光；高能光电转换器件，可以被配置为设置在所述灵敏介质的远离所述入射光的一端处，用于探测所述高能辐射光；以及，低能光电转换器件，可以被配置为设置在所述灵敏介质的靠近所述入射光的一端处，用于探测所述低能辐射光。

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