一种太阳能电池硅片刻蚀用水膜溶液及其应用

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专利状态

一种太阳能电池硅片刻蚀用水膜溶液及其应用

有效

专利申请进度

申请

2016-12-30

申请公布

2017-04-26

授权

2018-02-13

预估到期

2036-12-30

专利基础信息

申请号	CN201611257627.0	申请日	2016-12-30
申请公布号	CN106601831A	申请公布日	2017-04-26
授权公布号	CN106601831B	授权公告日	2018-02-13
分类号	H01L31/0216;H01L21/308;H01L31/18
分类	基本电气元件;
申请人名称	常州亿晶光电科技有限公司
申请人地址	江苏省常州市金坛区尧塘镇金武路18号

专利法律状态

2018-02-13

授权

状态信息

授权
2017-05-24

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效IPC(主分类):H01L 31/0216申请日:20161230
2017-04-26

公布

状态信息

公开

摘要

本发明属于太阳能电池技术领域，特别涉及一种太阳能电池硅片刻蚀用水膜溶液及其应用。本发明提供了一种太阳能电池硅片刻蚀用水膜溶液，该水膜溶液为葡萄糖和双氟磺酰亚胺盐分散于水中所形成，采用上述水膜溶液在硅片的扩散面(正面)上形成保护层，再进入刻蚀槽刻蚀背面和边缘的PN结，这样能够抑制刻蚀液中挥发的酸在水膜中的重新溶解，从而减小对扩散面(正表面)PSG和PN结的破坏。

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