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专利状态

蚀刻装置

有效

专利申请进度

申请

2016-05-31

授权

2016-12-14

预估到期

2026-05-31

专利基础信息

申请号	CN201620517153.8	申请日	2016-05-31
授权公布号	CN205812518U	授权公告日	2016-12-14
分类号	H05K3/06
分类	其他类目不包含的电技术;
申请人名称	东莞市五株电子科技有限公司
申请人地址	广东省东莞市石碣镇刘屋科技中路161号

专利法律状态

2016-12-14

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型提供一种蚀刻装置。所述蚀刻装置包括蚀刻槽及清洗装置，所述蚀刻槽包括底壁及自所述底壁延伸的侧壁，所述底壁与所述侧壁围设形成收容空间，所述清洗装置包括一体成型的盘管、间隔设置于所述盘管上的多个喷嘴、与所述盘管连通的进液管及固定于所述侧壁的卡座，所述盘管收容于所述收容空间且环绕所述侧壁设置，所述喷嘴朝向所述侧壁喷淋且其喷淋方向与水平面呈15?30°夹角，所述盘管通过所述卡座固定于所述侧壁，相邻两个所述喷嘴在所述侧壁上喷淋形成的喷淋区域部分叠加。与相关技术相比，本实用新型的蚀刻装置具有结构简单、稼动率高、清洗能力强且不会产生二次污染的优点。

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