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专利状态
托盘机构、镀膜装置及镀膜方法
有效
专利申请进度
申请
2022-08-05
申请公布
2022-11-22
授权
2024-02-06
预估到期
2042-08-05
专利基础信息
申请号 CN202210935343.1 申请日 2022-08-05
申请公布号 CN115369383A 申请公布日 2022-11-22
授权公布号 CN115369383B 授权公告日 2024-02-06
分类号 C23C16/458;C23C16/50
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 大族激光科技产业集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区深南大道9988号
专利法律状态
  • 2024-02-06
    授权
    状态信息
    授权
  • 2022-12-09
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C23C16/458;申请日:20220805
  • 2022-11-22
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本申请适用于镀膜技术领域,提供一种托盘机构、镀膜装置及镀膜方法,该托盘机构应用于真空镀膜工艺,包括托盘本体、弹性组件和多个支撑条,支撑条相互平行设置;托盘本体设置于支撑条上,托盘本体上设置有用于放置产品的放置位;弹性组件连接于支撑条与托盘本体,以通过弹性组件带动托盘本体相对于支撑条弹性升降。本申请实施例镀膜装置的下压组件用于下压托盘机构的托盘本体时,只需要克服弹性组件的弹性力,即可实现托盘本体的升降,因此使得下压组件需要施加的外力较小,并且下压组件的施力方式简单,简化了下压组件的结构,降低了下压组件的制造成本,从而降低了镀膜装置的制造成本。